CS Clean Systems

CS Clean Systems est votre fournisseur d’épurateurs de gaz à sec de confiance pour des applications dans l’industrie des semi-conducteurs, l’industrie de la haute technologie et des applications de Recherche et Développement connexes. 

La technologie d’épuration, qui assure un nettoyage très efficace, est utilisée depuis plus de 30 ans pour capter les gaz corrosifs, inflammables et hautement toxiques des flux de gaz d’échappement. CS Clean Systems s’occupe non seulement de la livraison et de l’installation des systèmes, mais assure également la maintenance et la recharge de l’installation depuis le Benelux Service Center.

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Production de semi-conducteurs

Épurateurs pour implanteurs d’ions, gravure au plasma et outils CVD.

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Production de semi-conducteurs

Purificateurs de gaz pour les processus photovoltaïques, MOCVD, CIGS.

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Specialty gasses

Solutions de nettoyage et d’armoires à gaz pour SF6, CF4, SiH4 et autres.

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Recherche et Développement

Épurateurs et purificateurs de gaz pour petites applications et usage occasionnel.

Technologie d’épuration unique

Les épurateurs extrêmement faciles à entretenir assurent un nettoyage très efficace jusqu’au niveau PPM le plus bas. Beaucoup de nos systèmes sont ainsi surveillés avec un détecteur de gaz au point final.

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Les systèmes de CS Clean Systems utilisent la technologie avancée de chimisorption CLEANSORB, qui assure une purification des gaz inégalée combinée à un fonctionnement simple.

 

Les systèmes de chimisorption à sec n’utilisent pas d’électricité, d’eau ou de carburant. De plus, il n’y a pas de contamination de précieuses ressources en eau par le rejet d’eaux usées contaminées.

 

Une colonne de granulés CLEANSORB lie généralement plusieurs milliers de litres de gaz dangereux pour former des sous-produits solides et sûrs. Les colonnes CLEANSORB utilisées ne sont pas jetées, mais remplies de matériau absorbant frais et produisent des quantités minimales de déchets.

 

Les granulés CLEANSORB convertissent les gaz dangereux en sels inorganiques stables à température ambiante. Il s’agit de la technologie de purification la plus qualitative et la plus écologique pour les flux de gaz d’échappement. Une large gamme de tailles de colonnes CLEANSORB est disponible pour répondre aux besoins de tous nos clients, des petits instituts de recherche universitaires aux installations de production de wafers fonctionnant 24 h/24.

 

CS Clean Systems jouit de plus de 30 ans d’expérience dans la technologie de chimisorption à sec et propose des solutions optimisées pour toutes les applications de processus.

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CLEANSORB

Systèmes d’épuration de gaz à sec pour les gaz d’échappement de processus.

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CLEAN-PROTECT

Protège contre les émissions de gaz nocives inattendues.

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CLEANVENT

Mini cartouches pour les tuyaux d’évacuation des armoires à gaz.

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Services et Support

En tant que Service Center, nous nous occupons de la maintenance et de la recharge de l’installation. Essentiellement, cela signifie que nous changeons pour vous les colonnes de l’épurateur au sein du système, moyennant quoi nous nous accordons sur le temps de réponse, afin de garantir la disponibilité maximale de vos systèmes.

Gaz

Les épurateurs de gaz de CS Clean Systems peuvent être utilisés pour une grande variété d’applications et de gaz. La purification de plusieurs gaz dans une même installation est également une option.

Afficher les gaz en fonction du processus

Afficher les gaz par processus
Application de processus

Gaz typiques ou Précurseurs liquides utilisés

   
Plasma Etch
Metal Etch Cl2, BCl3, HCl, CF4, SF6
Poly Silicon Etch Cl2, HBr, Br2, SF6, CF4, NF3, C4F8
Nitride Etch, Oxide Etch CF4, CHF3, C2F6, C3F8, C4F8, CH2F2, NF3, SF6, O2
Tungsten Etchback SF6
   
Ion Implantation
High, Medium, Low AsH3, PH2020-10-08-sgs-gas-0918, BF3, P, As, Sb, Sb(CH3)3, GeH4, GeF4, TMGa, GaI3
   
ALD, LPCVD, PECVD, HDP-CVD
TEOS, undoped TEOS, O2, O3
BPSG TEOS, O3, TMP, TMB, SiH4, PH3, B2H6
Poly-Si (doped) SiH4, (AsH3, PH3)
Silicon Germanium SiH4, GeH4
Oxide SiH4, O2
Nitride, (doped) SiH4, NH3, (TMP, TMB, SiH4, PH3, B2H6)
Oxynitride, (doped) SiH4, NH3, N2O, (TMP, TMB, SiH4, PH3, B2H6)
Low-k dielectrics 1MS, 2MS, 3MS, 4MS, DMDMOS
High-k dielectrics TMA, TEMAH, TDEAH, TAETO, PET
Gate Electrodes MPA, Ru(Etcp)2, PEMAT
Copper & Cobalt CVD Cu(hfac)(TMVS), Cobaltocene and related metalorganics
Tungsten (Silicide) WF6, SiH4, (DCS)
Barrier Layers TiCl4, NH3, TDMAT, PDMATa, PDEATa, TAETO, W(CO)6
   
Plasma Cleaning
PFC plasma C2F6, C4F8, NF3
Remote NF3 plasma F2
   
Epitaxy  
Silicon (doped) DCS, TCS, SiH4, HCl, (AsH3, PH3, B2H6)
Silicon-Germanium SiH4, GeH4, CBr4, 1MS, 2MS, 3MS, HCl
Silicon-Carbide (SiC) SiH4, TMAI, HCl
   
Compound Semiconductors, Optoelectronics, III-V on Si
GaAs, InP MOCVD (OMVPE) AsH3, PH3, TMAl, TMGa, TMln, TBA, TBP, SbH3, HCl, Cl2
GaN MOCVD Chamber Clean HCl, Cl2
MBE (MOMBE) As, P, AsH3, PH3, SbH3
III-V Etch Cl2, BCl3, HBr, SiF4, SF6, CH4, GaCl3, InCl3, AsH3, O2
   
Photovoltaics
Concentrator Photovoltaics PH3, AsH3, lll-V metalorganics, SiH4, GeH4
CIGS H2S, H2Se

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Maxwellstraat 5
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